技術(shù)文章
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同位素氣體是指由同位素原子組成的氣體。同位素是指具有相同質(zhì)子數(shù)和不同中子數(shù)的同種元素,因此它們的物理屬性和化學(xué)性質(zhì)可能存在差異。本文將介紹同位素氣體的性質(zhì)及其在科學(xué)研究和工業(yè)領(lǐng)域中的應(yīng)用。一、同位素氣體的性質(zhì)穩(wěn)定性與放射性同位素氣體的穩(wěn)定性取決于其原子核中的中子數(shù)。例如,氫的同位素有三種:氕(H)、氘(D)、氚(T),其中氕是穩(wěn)定的,而氘和氚是放射性的。這種放射性可用于生產(chǎn)能量或作為示蹤劑。質(zhì)量與分子結(jié)構(gòu)同位素原子的質(zhì)量不同,因此由它們組成的分子質(zhì)量也不同。這會(huì)影響到氣體的物...
高含量氧分析儀測(cè)定的因素主要有以下幾點(diǎn):1.泄漏。高含量氧分析儀在初次啟用前必須嚴(yán)格檢漏。高含量氧分析儀只有在嚴(yán)密不漏的前提下才能獲得準(zhǔn)確的數(shù)據(jù)結(jié)果。任何連接點(diǎn),焊點(diǎn),閥門(mén)等處的不嚴(yán)密,將會(huì)導(dǎo)致空氣中的氧反滲進(jìn)入管道及氧分析儀內(nèi)部,從而得出含氧量偏高的結(jié)果。2.污染。在重新使用高含量氧分析儀時(shí),首先須注意在連接氧分析儀的取樣管路時(shí)是否漏入空氣,并且必須認(rèn)真將漏入高含量氧分析儀的空氣吹除干凈,盡量不使大量氧氣通過(guò)高含量氧分析儀的傳感器以延長(zhǎng)傳感器壽命。在管道系統(tǒng)凈化過(guò)程中,為縮...
1、分析儀的配套管線(xiàn)應(yīng)確保密封,微小的泄漏都會(huì)使環(huán)境空氣中的氧擴(kuò)散進(jìn)來(lái),從而使測(cè)量數(shù)值偏高。雖然在測(cè)量中,樣氣壓力大于環(huán)境壓力,但樣氣中的氧是微量級(jí)的,根據(jù)法拉利定律,氧的分壓與其體積含量成正比,大氣中含有約為21%的氧,與以PPM計(jì)算濃度的樣氣的氧分壓相差一萬(wàn)倍左右,因而氣樣中微量氧的分壓遠(yuǎn)低于大氣中的氧分壓,當(dāng)出現(xiàn)泄漏時(shí),大氣中的氧便會(huì)從泄漏部位迅速擴(kuò)散進(jìn)來(lái)。還有,取樣管線(xiàn)應(yīng)盡可能短些,接頭盡可能少,要保證接頭及閥門(mén)密封良好,管線(xiàn)連接完畢后,應(yīng)做氣密性檢查。氣密性檢查的要...
在線(xiàn)非甲烷總烴分析儀可選配濃度超標(biāo)報(bào)警系統(tǒng)在線(xiàn)非甲烷總烴分析儀的工作原理是樣品經(jīng)過(guò)濾后,經(jīng)由十通進(jìn)樣閥,送入色譜柱進(jìn)行分離,把甲烷與其他碳?xì)浠衔锓蛛x開(kāi)來(lái),采用FID火焰離子檢測(cè)器進(jìn)行測(cè)量。色譜柱可以選用毛細(xì)柱或填充柱。每次測(cè)量前,可以通過(guò)自動(dòng)零點(diǎn)校正系統(tǒng)調(diào)零,確保零點(diǎn)穩(wěn)定。儀表配有自動(dòng)色譜工作軟件,Intel處理器控制儀表運(yùn)行,實(shí)時(shí)診斷儀表工作狀態(tài),在大屏幕顯示屏上,可以顯示色譜圖及儀器的各項(xiàng)指標(biāo)。功能特點(diǎn):1.網(wǎng)絡(luò)數(shù)字信號(hào)傳輸2.采樣時(shí)間,測(cè)量數(shù)據(jù)頻率可設(shè)置3.可定制為防...
PDHID氦離子化氣相色譜儀是一種高靈敏度、高選擇性分析空氣中微量有機(jī)物的儀器。采用雙探測(cè)器技術(shù),即PD(PhotoionizationDetector)與HID(HeliumIonizationDetector)兩種檢測(cè)器相結(jié)合。PD檢測(cè)器以紫外光為能量源,將樣品中的有機(jī)物分子電離成正離子,然后通過(guò)電場(chǎng)加速器傳遞至離子收集極上形成一個(gè)電流信號(hào),從而實(shí)現(xiàn)對(duì)有機(jī)物的定量分析;而HID檢測(cè)器則利用氦原子激發(fā)樣品中的有機(jī)物分子產(chǎn)生碎片離子,然后再次通過(guò)電場(chǎng)加速器傳遞至離子收集極上形...
中華人民共和國(guó)國(guó)家計(jì)量檢定規(guī)程國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局發(fā)布微量氧分析儀檢定規(guī)程VerificationRegulationofMicroOxygenAnalyzers本規(guī)程經(jīng)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局于2010年6月10日批準(zhǔn),并自2010年12月10日起施行。微量氧分析儀檢定規(guī)程1范圍本規(guī)程適用于測(cè)量范圍為0~1000vmol/mol微量氧分析儀的檢定、后續(xù)檢定和使用中的檢驗(yàn)。2概述微量氧分析儀(以下簡(jiǎn)稱(chēng)儀器)主要用于化學(xué)、冶金、電子工業(yè)等領(lǐng)域中生產(chǎn)和應(yīng)用的氣體中微量氧含量的...
概覽SilcoNert®2000是非晶硅的化學(xué)保護(hù)屏障,其進(jìn)一步官能化以提供可用的最惰性表面。通過(guò)應(yīng)用化學(xué)氣相沉積(CVD),SilcoNert®2000非常適用于硫化物,汞,氨或其他活性化合物的痕量級(jí)測(cè)試精度(特色與優(yōu)勢(shì)?非視距工藝;所有孔和復(fù)雜的幾何形狀都能被涂層?消除吸附和再測(cè)試?獲得更快的校準(zhǔn)?對(duì)結(jié)果充滿(mǎn)信心SilcoNert®2000規(guī)格基板兼容性*:SS合金,陶瓷,玻璃,鈦及大多數(shù)特殊金屬,TIG/MIG焊接、真空鎳釬焊區(qū)域允許溫度范圍*:...
概述Dursan®是一種提供化學(xué)防護(hù)屏障的含硅、氧和碳的非晶涂層,并且作了進(jìn)一步功能化以減少對(duì)腐蝕性、反應(yīng)活性和其它不利分子的吸附。以化學(xué)氣相沉積(CVD)法制成的Dursan®涂層,是應(yīng)用中需要穩(wěn)定且化學(xué)惰性表面時(shí)的選擇。主要應(yīng)用和優(yōu)勢(shì)?以低成本達(dá)到類(lèi)似稀有合金的抗腐蝕性能?提高系統(tǒng)耐用性?提高儀器精度和響應(yīng)時(shí)間?防粘易釋,易于清潔的表面Dursan®性能指標(biāo)沉積工藝:功能化硅膠樣涂層(a-SiOX:CHY)涂層結(jié)構(gòu):熱化學(xué)氣相沉積(非等離子體增強(qiáng))...
本資料全面介紹了SilcoTek®公司和其研發(fā)的涂層技術(shù)以及這些技術(shù)所能解決的關(guān)鍵問(wèn)題。1985年,PaulSilvis在一家由小學(xué)改造成的企業(yè)孵化基地的一個(gè)房間里開(kāi)設(shè)了一家色譜公司Restek®。1987年,Restek®發(fā)明了最初的SilcoSteel®涂層技術(shù),使分析儀器金屬表面具有玻璃一樣惰性。1993年,Restek®涂層研發(fā)團(tuán)隊(duì)開(kāi)發(fā)了一種處理其它分析部件(如閥門(mén)、接頭等)的方法。1998年,Restek®榮獲多項(xiàng)表面...